99,7% напредна алумина керамика
Керамика од алумина со висока чистота (Al)2O3:>99,7%）
-Плоча за полирање на алуминиумска плочка / ротирачка маса
- Голема подлога од алуминиумска оксид со висока чистота за опрема за производство на LCD екрани
Материјал:
Алумина со висока чистотаAl2O3:>99,7%
Апликација:
Полупроводнички, нафтени, хемиски, фотоволтаични, LCD индустрии итн., како механички делови, електронски делови, микробранови индукциски дискови, изолациски делови. Како што се производство на полупроводнички уреди, вакуумска опрема, опрема за производство на течни кристали и други компоненти. На пример, големата плоча за полирање/ротирачка маса од алуминиумска керамичка плочка со висока чистота е важна компонента на CMP во хемиско-механичкото полирање, алуминиумската подлога за LCD.
Карактеристики:
Ал со висока чистота2O399,7% -99,9%
Висока механичка цврстина
Висока отпорност на абење
Висока електрична изолација
Висока хемиска издржливост
Добра отпорност на топлина и корозија
Предност на производителот:
Имаме независна интелектуална сопственост на системот за спонтано зацврстување PIBM, професионално произведуваме висококвалитетни компоненти од фина керамика.
Новата технологија ги решава проблемите со деформација и пукање на големите керамички влажни празнини во процесот на подготовка, а перформансите на производот се значително оптимизирани за големите керамички делови подготвени со традиционални методи.
Полирачката на вафли од алуминиумска керамика со сафир и лачење на алуминиумска керамика на „Чемшун Керамикс“ е обликувана како процес на производство на PIBM. Тоа е интернационална напредна технологија. PIBM успешно го реши клучниот проблем на пукнатини и деформации на алуминиумската керамика со големи димензии. Технологијата PIBM ќе отвори уште еден прозорец кон фината керамика. Ние не само што произведуваме висококвалитетна алуминиумска керамика со висококвалитетна полирање на алуминиумска керамика, туку и други серии на алуминиумска керамика со висока чистота со големи димензии, како што се керамички подлоги од 1200x500x20mm за опрема за производство на LCD, траки за испорака на полупроводници, вакуумски делови, општи механички делови, непробојна керамика.
Облик и големина на производот
1. Плоча за полирање / ротација од алуминиумска плочка. Диск, големина на прстен под 850 mm, дебелина 45 mm.
2. Алумина подлога за LCD како потпорна плоча/носечка плоча. Облик како долга плоча, долга шипка, квадратна плоча, тенка плоча со големина под 1500*600 mm, како на пример: 1200x500x20, 1400x900x30 итн.
3. Водилки под 1000 * 45 * 45мм.
4. Празни цевки, цилиндри, електрични вакуумски цевки итн. Со големина под 300 ~ 600 × L500mm.
5. Прифатени се прилагодени производи со различни делови во облик.
Главен параметар: (Хемиски / физички):
| Имот | Ставка | Единица | Кемшун 99,7% Алумина Керамика |
| Општи својства | Главна компонента | тежински% | 99,7-99,9 |
| Густина | gm/cc | 3,94-3,97 | |
| Боја | - | Слонова коска | |
| Апсорпција на вода | % | 0 | |
| Механички својства | Јачина на свиткување (MOR) 20 ℃ | Мпа(псикс10^3) | 440-550 |
| Модул на еластичност 20℃ | GPa (psix10^6) | 375 | |
| Викерсова тврдост | Gpa (кг/мм2) R45N | >=17 | |
| Јачина на свиткување | Просек | 390 | |
| Затегнувачка цврстина 25℃ | MPa(psix10^3) | 248 | |
| Отпорност на кршење (KI c) | Мпа* м^1/2 | 4-5 | |
| Термички својства | Топлинска спроводливост (20℃) | W/mk | 30 |
| Коефициент на топлинска експанзија (25-1000℃) | 1x 10^-6/℃ | 7.6 | |
| Отпорност на термички шок | ℃(Δ Tc) | 200 | |
| Максимална температура на употреба | ℃ | 1700 година | |
| Електрични својства | Диелектрична јачина (1MHz) | ac-kv/mm(ac v/mil) | 8,7 |
| Диелектрична константа (1 MHz) | 25℃ | 9.7 | |
| Волуменска отпорност | ом-см (25℃) | >10^14 | |
| ом-см (500℃) | 2×10^12 | ||
| ом-см (1000℃) | 2×10^7 |
Процес на лиење Процес на керамичка завршна обработка
Обезбедување на квалитет:
Секоја серија производи се проверува во фабричката лабораторија и во Националниот инспекциски центар.
